crf光催化工藝中電漿清洗機(jī)特性的應(yīng)用原理：
        二氧化硅當(dāng)反應(yīng)器產(chǎn)生的高能粒子將有機(jī)污染物拆解成小分子時(shí)，這種成分在催化劑上下更進(jìn)一步氧化分解成無機(jī)小分子，進(jìn)而到達(dá)過濾和分離廢氣的目的。光催化劑和等離子體放電相互影響，可改變等離子體放電的性質(zhì)，使其產(chǎn)生更強(qiáng)的氧化新活性物質(zhì)；等離子體放電影響催化劑的化學(xué)成分、比表面積和催化結(jié)構(gòu)，提高催化活性，進(jìn)一步提高低溫等離子體+光催化工藝過濾VOCs效果。該組合工藝更主要用于處理風(fēng)量大、濃度低的工業(yè)廢氣，有著運(yùn)行成本低、反應(yīng)速度快、無再次污染等優(yōu)點(diǎn)。

         CRF電漿清洗機(jī)的表面改性使用等離子體中的高能活性粒子躍遷材料表面，授予其新的表面特性。由于只作用于表面，材料原有的身體特性保持不變。需要指出的是，電漿清洗機(jī)對(duì)基材沒有要求，可用于金屬材料的表面改性和絕緣材料。
         電漿清洗機(jī)的清洗是清洗產(chǎn)品的過程，以提高其打印或粘接能力。電漿清洗機(jī)的目的是去除有機(jī)表面的污染物。等離子體處理您的產(chǎn)品表面，以接受印刷粘合劑或油墨。通常在聚合物材料或塑料上，電漿清洗機(jī)的表面改性實(shí)際上改變了材料的表面，留下了自由基，粘合在膠水或油墨上。