等離子清洗機(jī)原理就是利用等離子的特性使用大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清(除)了表面原有的污染物和雜質(zhì)，而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細(xì)坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。要外加能量給電子，簡(jiǎn)單的方法就是用平行電極板加一直流電壓，電子在電極中，會(huì)被帶正電的電極所吸引而加速，在加速的過程中電子可以累積能量，當(dāng)電子的能量達(dá)到某一程度時(shí)，就有能力來解離中性氣體原子，能產(chǎn)生高密度等離子體的方法有很多種。等離子體在低溫條件下能夠產(chǎn)生非平衡電子、反應(yīng)離子和自由基的特性。等離子體中的高能活性基團(tuán)轟擊表面，會(huì)造成濺射、熱蒸發(fā)或光致降解。等離子體特有的清洗過程主要是基于等離子體濺射和刻蝕所帶來的物理和化學(xué)變化。

物理濺射的過程中，等離子體中高能量離子脈沖式的表面轟擊會(huì)導(dǎo)致表面原子發(fā)生位移，在某些情況下，還會(huì)造成次表層上原子的移位，因此物理濺射沒有選擇性。在化學(xué)刻蝕的過程中，等離子體中的活性基團(tuán)和表面原子，分子發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生的揮發(fā)性物質(zhì)可以通過泵抽走。在等離子刻蝕過程中，通過選擇不同的工藝參數(shù)，可以對(duì)不同材料實(shí)現(xiàn)高選擇性的化學(xué)反應(yīng)刻蝕，然而這種方法對(duì)同一種材料的刻蝕是各向同性的。在離子增強(qiáng)刻蝕中，高能粒子撞擊表面時(shí)，會(huì)在表面形成缺陷、位錯(cuò)或懸浮，這些缺陷提高了表面的化學(xué)反應(yīng)刻蝕速率，使這種刻蝕過程同時(shí)具備可選擇性和方向性。

在所有的這些清洗過程中，在碳?xì)浠衔锱c襯底之間的鍵合被削弱，獲得的能量使這些有(機(jī))復(fù)合物從襯底上脫離。一旦脫離有(機(jī))化合物分子基團(tuán)就會(huì)被惰性氣體帶走。等離子體所產(chǎn)生的光輻照、中性粒子流和帶電粒子轟擊為結(jié)合鍵的斷裂提供了能量。這些能量首先被碳?xì)浠衔镂蘸螅诟鞣N形式的二次過程中又被消耗掉。正是這些各種形式的二次過程實(shí)現(xiàn)了表面清洗的效(果)。在等離子體中存在大量的紫外線輻照，能量被聚合物吸收后，產(chǎn)生了化學(xué)性質(zhì)很活躍的自由基，這些自由基和容易與等離子體中的氣體發(fā)生(發(fā))生反應(yīng)，產(chǎn)生揮發(fā)性氣體。在等離子體中，快離子與中性粒子碰撞后產(chǎn)生的中性自由基不斷地轟擊樣品表面，以動(dòng)能、振動(dòng)‘解離和激發(fā)態(tài)的模式在中性粒子之間進(jìn)行電荷交換和能量傳遞。運(yùn)動(dòng)動(dòng)能和振動(dòng)動(dòng)能以一種溫和的方式加熱表面，解離和激發(fā)態(tài)產(chǎn)生的自由基以平動(dòng)或振動(dòng)的方式傳遞熱量。如果能量超過閾值，則可能導(dǎo)致濺射，并伴隨著自由基團(tuán)的產(chǎn)生。處理明(顯)的類似于機(jī)械的方法去除表面污染物濺射過程外，等離子體中的自由基是很重要的去除碳?xì)浠衔锏囊蛩亍?br />